图案化工艺包括曝光(Exposure)、显影(Develope)、刻蚀(Etching)和离子注入等流程。其中，刻蚀工艺是光刻（Photo）工艺的下一步，用于去除光刻胶（Photo Resist，PR）未覆盖的底部区域，仅留下所需的图案。这一工艺流程旨在将掩模（Mask）图案固定到涂有光刻胶的晶圆上（曝光→显影）并将光刻胶图案转印回光刻胶下方膜层。
2025年06月23日
图案化工艺包括曝光(Exposure)、显影(Develope)、刻蚀(Etching)和离子注入等流程。其中，刻蚀工艺是光刻（Photo）工艺的下一步，用于去除光刻胶（Photo Resist，PR）未覆盖的底部区域，仅留下所需的图案。这一工艺流程旨在将掩模（Mask）图案固定到涂有光刻胶的晶圆上（曝光→显影）并将光刻胶图案转印回光刻胶下方膜层。
2025年06月23日
3D Channel 三维通道特效
--3D Channel Extract---------3D通道提取
--Depth Matte----------------深度蒙板
--Depth Of Field-------------景深
--Extractor------------------提取器
--Fog 3D---------------------雾化3D
2025年06月23日
imec先进图案化工艺和材料副总裁Steven Scheer之前曾撰文表示，2019年，极紫外光（EUV）微影技术在先进逻辑晶圆厂进入量产，如今动态随机存取记忆体（DRAM）厂商也对采用EUV制程越来越感兴趣。这一切都要归功于阿斯麦（ASML）的倾心倾力与坚持研发，有了他们的助力，这项技术才能取得超乎意料的重大突破。新一波革命是引进高数值孔径（0.55NA）的EUV微影技术，把光学成像的半间距（half pitch）缩小至8nm。
2025年06月23日
除非你不受尘世打扰，不得不承认在网页设计中，扁平化是一个巨大的趋势。如果你不熟悉这些术语，扁平化设计，是无阴影，渐变，并且在网页设计中不使用以前很常见的纹理。扁平化设计使用，大面积纯色，以及字体在设计中往往很显眼。
在这篇文章中，我们将展示超过30个优秀的扁平化风格网页设计。希望他们可以给你提供一些启示，让你也可以运用于自己的工作。
图片不可外链，大家就先欣赏一下网站的截图吧。
2025年06月23日
E
earnest (adj.认真的, 热心的, 重要的n.真挚, 定金, 认真, 热心)
ease (n.安逸, 安心, 不费力, 悠闲 vt.使悠闲, 使安心, 减轻, 放松 vi.减弱, 减轻, 放松, 灵活地移动)
2025年06月23日
今日，北师香港浸会大学（BNBU）2025届约1300名研究生顺利毕业。在毕业典礼上，传播学文学硕士（运动、健康与传播专修）毕业生代表阚梦琪、传播学文学硕士（影视与新媒体制片管理专修）毕业生代表王嘉宁分别致辞。